須川・黒田研究室

  • イメージセンサに関する研究
  • 半導体デバイス・プロセス・評価技術に関する研究 
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  • 半導体デバイス
  • 集積回路
  • 半導体製造装置
  • 半導体プロセス
  • 評価技術
本研究室では、新規な半導体集積回路・デバイス・プロセス・評価技術の開発を基盤として、ばらつき・ノイズを極限まで低減した高性能高精度高信頼性デバイス・システムの開発を行っています。電子デバイス・機器に関わるシステム、アルゴリズム、アーキテクチャ、回路、デバイス、プロセス、装置、部品・材料、ユーティリティなどの各技術の深遠を徹底的に追求しています。また、積極的に産学連携を行いその実用化を推進しています。さらに、新技術創生のみならず、技術経営も担える人材を育成するよう努力しています。